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Produkte

Plättchenkalziniertes Aluminiumoxidpulver


  • Produktstatus:Weißes Pulver
  • Härte:2100 kg/mm²
  • Molekulargewicht:102
  • Schmelzpunkt:2010℃-2050℃
  • Siedepunkt:2980℃
  • Wasserlöslich:Unlöslich in Wasser
  • Dichte:3,0–3,2 g/cm³
  • Inhalt:99,7 %
  • Produktdetails

    ANWENDUNG

    Plattenkalziniertes Aluminiumoxid-Polierpulver wird aus hochwertigem industriellem Aluminiumoxidpulver hergestellt und in einem speziellen Produktionsverfahren verarbeitet. Die Kristallform des hergestellten Aluminiumoxid-Polierpulvers ist hexagonal flach und tafelförmig, daher wird es auch als Platten- oder Tafel-Aluminiumoxid bezeichnet.

    Plättchenförmiges Aluminiumoxid ist ein hochwertiges Schleifpulver vom Aluminiumoxid-Typ, bestehend aus plättchenförmigen Al₂O₃-Kristallen mit einer Reinheit von über 99,0 %. Es zeichnet sich durch hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Inertheit aus und wird weder von Säuren noch von Laugen angegriffen. Dank der präzise kontrollierten Partikelgrößenverteilung ermöglicht es die Erzeugung sehr feiner, geläppter Oberflächen und ist daher als Schleifmittel äußerst effektiv. Mit seinem breiten Anwendungsspektrum eignet sich plättchenförmiges Aluminiumoxid für vielfältige Anwendungen.

    Tabulares Aluminiumoxidpulver (1)111

    Tabellarisches Aluminiumoxidpulver

    Tabellarisches Aluminiumoxidpulver (1)

    Tabellarisches Aluminiumoxidpulver

    Standardvorgaben für die Partikelgröße

     

    Teilchen
    Größe

    Partikelverteilung (µm)

    Maximales Partikel
    Größe

    Partikelgröße
    bei 3%-Punkt

    Partikelgröße
    bei 50%

    Partikelgröße
    bei 94%-Punkt

    45

    <82,9

    53,4 ± 3,2

    34,9 ± 2,3

    22,8 ± 1,8

    40

    <77,8

    41,8 ± 2,8

    29,7 ± 2,0

    19,0 ± 1,0

    35

    <64.0

    37,6 ± 2,2

    25,5 ± 1,7

    16,0 ± 1,0

    30

    <50,8

    30,2 ± 2,1

    20,8 ± 1,5

    14,5 ± 1,1

    25

    <40,3

    26,3 ± 1,9

    17,4 ± 1,3

    10,4 ± 0,8

    20

    <32,0

    22,5 ± 1,6

    14,2 ± 1,1

    9,00±0,80

    15

    <25,4

    16,0 ± 1,2

    10,2 ± 0,8

    6,30±0,50

    12

    <20.2

    12,8 ± 1,0

    8,20±0,60

    4,90±0,40

    9

    <16.0

    9,70±0,80

    6,40±0,50

    3,60±0,30

    5

    <12,7

    7,20±0,60

    4,70±0,40

    2,80±0,25

    3

    <10.1

    5,20±0,40

    3,10±0,30

    1,80±0,30

    Qualitätsstandard

     

    Produktart

    Spezifisches Gewicht

     

    Al2O3

    SiO2

    Fe2O3

    Na2O

    3µm–45µm

    >3,90

    >99,0

    <0,20

    <0,10

    <1,00

     

    Vorteile von Aluminiumoxidpulver

    1. Im Vergleich zu anderen tafelförmigen Pulvern weist das tafelförmige Aluminiumoxidpulver hervorragende Kombinationseigenschaften auf. Dazu gehören ein hoher Schmelzpunkt, hohe Härte, hohe mechanische Festigkeit, gute Verschleißfestigkeit, Chemikalienbeständigkeit, Oxidationsbeständigkeit und Hitzebeständigkeit.

    2. Die flache Blechform erhöht die Reibung, verbessert die Schleifgeschwindigkeit und -effizienz, wodurch die Anzahl der Schleifmaschinen, der Arbeitsaufwand und die Schleifzeit reduziert werden können.

    3. Durch die flache Plattenform wird das Schleifgut weniger leicht zerkratzt, wodurch die Ausbeute an qualifizierten Produkten um 10–15 % steigen kann. Beispielsweise kann die Ausbeute an qualifizierten Siliziumwafern für Halbleiter auf 96 % oder mehr erhöht werden.

    4. Besitzt die doppelte Wirkung von Nano- und Mikropulvern, die Oberflächenaktivität ist moderat, kann sich nicht nur effektiv mit anderen aktiven Gruppen verbinden, sondern neigt auch nicht zur Agglomeration und ermöglicht eine effektive Dispersion.

    5. Besitzt eine gute Haftung, eine ausgeprägte Abschirmwirkung und die Fähigkeit, Licht zu reflektieren.

    6. Das tafelförmige Aluminiumoxidpulver ist nahezu transparent, farblos und besitzt eine ebene und glatte Oberfläche. Die gut kristallisierten Kristalle sind regelmäßige Sechsecke.

    7. Aus dem tafelförmigen Aluminiumoxidpulver lässt sich ein ausgezeichnetes Polierpulver herstellen.


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  • 1. Elektronikindustrie: Schleifen und Polieren von Halbleiter-monokristallinen Siliziumwafern, Quarzkristallen, Verbindungshalbleitern (kristallines Gallium, Phosphatierung von Nano).

    2. Glasindustrie: Schleifen und Verarbeiten von Kristallglas, Quarzglas, Kineskop-Glasgehäuseschirmen, optischem Glas, Flüssigkristallanzeige (LCD)-Glassubstraten und Quarzkristallen.

    3. Beschichtungsindustrie: Spezialbeschichtungen und Füllstoffe für das Plasmaspritzen.

    4. Metall- und Keramikverarbeitungsindustrie: Präzisionskeramikwerkstoffe, Sinterkeramikrohstoffe, hochwertige Hochtemperaturbeschichtungen usw.

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